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離子源清洗要點(diǎn)!

進(jìn)行離子源操作時(shí)需要戴清潔的手套。清洗離子源分為以下三個(gè)步驟:1、取出離子源。停止真空后,擰松真空艙旋鈕,拉開艙門,用鑷子拔下排斥極擋片,把導(dǎo)線移到左邊,把離子源安裝桿放在離子源上,用一字螺絲刀把離子

多弧離子鍍簡(jiǎn)介

多弧離子鍍概念簡(jiǎn)單說(shuō),多弧離子鍍的原理就是將陰極靶作蒸發(fā)源,通過靶與陽(yáng)極殼體之間的弧光放電, 使靶材蒸發(fā), 從而在空間中形成等離子體,對(duì)基體進(jìn)行沉積 。離子鍍技術(shù)是結(jié)合蒸發(fā)與濺射技術(shù)而發(fā)展的一種 PV

教你如何清洗石墨坩堝

雖然石墨坩堝擁有體積密度大、耐高溫、傳熱快、耐酸堿侵蝕、高溫強(qiáng)度大、抗氧化性能高等特點(diǎn),但是對(duì)于個(gè)別原料的煉制,在坩堝使用以后的清理工作卻很麻煩。石墨坩堝的清洗首要進(jìn)行的工作是將坩堝內(nèi)的化學(xué)物質(zhì)清理出

電子槍燈絲的壽命

電子槍是對(duì)電子轟擊靶屏發(fā)光進(jìn)行加速的一種裝置,電子槍的功能在于給出滿足要求的電子束,在挑選電子槍的材料和工藝結(jié)構(gòu)時(shí),需要考慮到電子槍易于加工和使用方便。電子槍的陰極對(duì)其壽命的長(zhǎng)短起決定性作用,而陰極的

薄膜技術(shù)與材料摘錄

1,隨著氣體壓力升高,在弧光放電過程中,單位時(shí)間內(nèi)碰撞次數(shù)增加,電子與其他重粒子之間發(fā)生充分的能量交換,電子溫度與氣體溫度,離子溫度逐漸趨于相等,等離子體由非平衡狀態(tài)過渡到熱平衡狀態(tài)。2,等離子體相對(duì)

真空鍍膜--光學(xué)鍍膜機(jī)的維護(hù)與保養(yǎng)

光學(xué)鍍膜機(jī)主要由真空鍍膜機(jī)室、真空抽氣機(jī)組及電柜(控制電柜、電子槍電柜)組成,其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。 光學(xué)鍍膜設(shè)備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對(duì)金屬或非

離子源燈絲的清洗

離子源燈絲的使用周期會(huì)因使用者的使用習(xí)慣和維護(hù)程度不同而千差萬(wàn)別。發(fā)現(xiàn)離子源燈絲需要清洗時(shí),使用者應(yīng)該更具說(shuō)明仔細(xì)的進(jìn)行操作,正確的清洗和重新安裝是至關(guān)重要的。除了對(duì)離子源燈絲本身的清洗,還應(yīng)該考慮到

提高晶振片使用壽命的方法

為了使晶振片壽命最長(zhǎng),蒂姆新材料整理了一些方法和技巧供您參考:1.總是用攝子來(lái)挾住晶振片的邊緣,不要碰晶振片中心。因?yàn)榫д衿駝?dòng)的活躍中心,任何灰層,油污都會(huì)降低晶振片的振動(dòng)能力。新的晶振片使用之前應(yīng)

噴砂對(duì)涂層質(zhì)量的影響

噴砂按工藝目的可分為:(1)表面清潔(2)刃口細(xì)化(3)改善鈷流失表面(4)涂層后處理。按噴砂的工藝方法分有干噴砂和濕噴砂。按操作方式可分為自動(dòng)噴砂機(jī)和手動(dòng)噴砂機(jī)。大部分干式噴砂機(jī)都配置有自動(dòng)噴砂功能

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